Desinfektion in Lösemittel
![Cinta Sept](typo3temp/_processed_/csm_Logo_CintaSept_1cb2243dee.png)
Cinta Sept
Hochwirksames Additiv zur desinfizierenden Textilreinigung in den führenden Lösemitteln wie SOLVONK4, Perchlorethylen, KWL, intense® und SENSENE™. Dermatologisch mit "sehr gut" getestet.
Anbürstmittel
![PRENETTK4](typo3temp/_processed_/csm_logo_prenettk4_91f4aafd28.png)
PRENETTK4
Anbürstmittel und Vordetachiermittel für die Textilreinigung im SYSTEMK4. Chemische Fabrik Kreussler &Co. GmbH hat das innovative Reinigungssystem SYSTEMK4 weltweit zum Patent angemeldet.
Reinigungsverstärker
![CLIPK4](typo3temp/_processed_/csm_logo_clipk4_14b69564d7.png)
CLIPK4
Reinigungsverstärker für Textilreinigungsmaschinen im SYSTEMK4. Chemische Fabrik Kreussler &Co. GmbH hat das innovative Reinigungssystem SYSTEMK4 weltweit zum Patent angemeldet.
Imprägnierung / Ausrüstung
![VINOYK4](typo3temp/_processed_/csm_logo_vinoyk4_1563267734.png)
VINOYK4
Imprägnier- und Fleckschutzmittel zur Anwendung in Reinigungsmaschinen im SYSTEMK4. Chemische Fabrik Kreussler &Co. GmbH hat das innovative Reinigungssystem SYSTEMK4 weltweit zum Patent angemeldet.
Lederhilfsmittel
![Oleoderm](typo3temp/_processed_/csm_logo_oleoderm_9f99ae0822.png)
Oleoderm
Hochkonzentriertes Lederöl mit Hydrophobierwirkung zur Reinigung und Durchfettung von Leder und Pelzen. Einsatz in Per, KWL, SYSTEMK4 und Cyclosiloxan D5.
Lösemittel
![SOLVONK4](typo3temp/_processed_/csm_logo_solvonk4_e1bc6691ab.png)
SOLVONK4
Halogenfreies Lösemittel für die Textilreinigung im SYSTEMK4. Chemische Fabrik Kreussler &Co.GmbH hat das innovative Reinigungssystem SYSTEMK4 weltweit zum Patent angemeldet.
Lösemittelpflege
![Distil](typo3temp/_processed_/csm_logo_distil_7f706b9f8c.png)
Distil
SCHAUMBRECHER Destillationsentschäumer für organische Lösemittel. Einsatz in Per, KWL, SYSTEMK4 und Cyclosiloxan D5.
sonstige
![Prenett ABC](typo3temp/_processed_/csm_logo_prenett_abc_5d0dc0b255.png)
Prenett ABC
Vordetachiermittel für die Textilreinigung in Lösemitteln. Einsatz in Per, KWL, SYSTEMK4 und Cyclosiloxan D5.